藍寶石研磨液YG-D302
- 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：藍寶石基片CMP拋光液是我公司生產(chǎn)的新一代水溶性高純度CMP漿料，具有穩定性好、濃度高、可循環(huán)使用等特點(diǎn)，用于藍寶石基片軟拋加工工藝，能夠實(shí)現晶片移率 高，表面平...
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產(chǎn)品詳情
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：藍寶石基片CMP拋光液是我公司生產(chǎn)的新一代水溶性高純度CMP漿料，具有穩定性好、濃度高、可循環(huán)使用等特點(diǎn)，用于藍寶石基片軟拋加工工藝，能夠實(shí)現晶片移率
高，表面平整度高、粗糙度低，表面無(wú)麻點(diǎn)、腐蝕坑等微缺陷，多項參數達到國際先進(jìn)水平。YG-D302型CMP漿料采用單質(zhì)硅水解工藝制備的致密度更好的膠體并且在輔助催化方面做了改進(jìn)，具有去除速率高，表面質(zhì)量好等優(yōu)勢。
產(chǎn)品參數：
外觀(guān)：乳白色
PH值：10-12
比重 ：1.265-1.300
粘度 (mPa.s, 25*C) <5
粒徑 (nm) ：120-140
Si02% :38-42
產(chǎn)品特點(diǎn)：雜質(zhì)少，易清洗，無(wú)毒無(wú)污染。
產(chǎn)品適用：本品主要適用于2、4、6英寸藍寶石襯底片的高質(zhì)量平整化精加工工藝。
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